Использование: для регистрации рентгенодифракционных параметров кристалла при воздействии лазерного излучения. Сущность изобретения заключается в том, что устройство для регистрации рентгенодифракционных параметров кристалла при воздействии лазерного излучения содержит источник рентгеновского излучения, диафрагму, установленный на гониометрической системе образец, источник лазерного излучения и управляющую ЭВМ, подключенную к двигателям гониометра, при этом между диафрагмой и установленным на гониометрической системе образцом размещен асимметрично вырезанный кристалл-монохроматор, а за образцом по ходу отраженных лучей установлен двумерный детектор, который подключен к управляющей ЭВМ. Технический результат: повышение точности и достоверности результатов исследования кристаллов. 4 ил.